SEM2000是一款基礎款的多功能分析型鎢燈絲掃描電鏡。20 kV分辨率可以做到3.9 nm,支持升級30 kV電壓,可觀察亞微級尺度樣品的微觀結構信息。擁有比臺式電鏡更大的移動范圍,適用于快速篩選待測樣品,更多的擴展接口,可搭載BSED、EDS等附件,使應用領域更廣。
分辨率 | 加速電壓 | 放大倍數 |
3.9 nm @ 20 kV | 0.5~20 kV (30 kV可選) | 1~300,000x |
產品特點
?簡潔的操作界面
? 純中文的操作界面
功能設計簡單易操作。符合國人使用習慣,即使是新手用戶,簡單了解后也能快速上手。
? 完善的自動化功能
自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散,均可一鍵調節,提高工作效率。
? 豐富的測量工具
長度、面積、圓度、角度等測量功能強大的照片管理和預覽、編輯功能。
?特色功能
? 光學導航
想看哪里點哪里,導航更輕松
標配光學導航攝像頭,可拍攝高清樣品臺照片,快速定位樣品。
? 防撞設計
對新手更友好的防碰撞設計,限度保護敏感單元。
? 一鍵成像
*軟件一鍵成像,新手也能輕松駕馭。
? 分析距離
分析距離和成像距離二合一,輕松體驗優質性能。
?多種信息同時成像
SEM2000軟件支持一鍵切換SE和BSE的混合成像。可同時觀察到樣品的形貌信息和成分信息。
?分辨率指標
?豐富的擴展性
? 高靈敏度背散射探測器
- 多通道成像
探測器設計精巧,靈敏度高,采用4分割設計,無需傾斜樣品,可獲得不同方向的陰影像以及成分分布圖像。
- 二次電子成像和背散射電子成像對比
背散射電子成像模式下,荷電效應明顯減弱,并且可以獲得樣品表面更多的成分信息。
? 能譜
金屬夾雜物能譜面掃分析結果。
? 電子背散射衍射
鎢燈絲電鏡束流大,滿足高分辨EBSD的測試需求,能夠對金屬、陶瓷、礦物等多晶材料進行晶體取向標定以及晶粒度大小等分析。 該圖為Ni金屬標樣的EBSD反極圖,能夠識別晶粒大小和取向,判斷晶界和孿晶,對材料組織結構進行精確判斷。
應用案例
產品參數
電子光學系統 | 電子槍類型 | 預對中型發叉式鎢燈絲電子槍 |
分辨率 | 3.9 nm @ 20 kV(SE) | |
4.5 nm @ 20 kV(BSE) | ||
放大倍率 | 1 x~300,000 x | |
加速電壓 | 0.5 kV~20 kV | |
成像系統 | 探測器 | 二次電子探測器(ETD) |
*背散射電子探測器、*能譜儀EDS等 | ||
圖像保存格式 | TIFF、JPG、BMP、PNG | |
真空系統 | 高真空 | 優于5×10-4 Pa |
控制方式 | 全自動控制 | |
泵 | 機械泵×1,分子泵×1 | |
樣品室 | 攝像頭 | 光學導航 |
樣品臺配置 | 兩軸自動 | |
行程 | X: 100 mm | |
Y: 100 mm | ||
軟件 | 語言 | 中文 |
操作系統 | Windows | |
導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | |
自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 | |
特色功能 | 智能輔助消像散、大圖拼接(選配軟件) | |
安裝要求 | 房間 | 長 ≥ 3000 mm,寬 ≥ 4000 mm,高 ≥ 2300 mm |
溫度 | 20 ℃~25 ℃ | |
濕度 | ≤ 50 % | |
電氣參數 | 電源AC 220 V(±10 %),50 Hz,2 kVA |